Cartouche de filtrage de plaie à profondeur de fluide de polissage de la série CMW avec faible précipitation, haute capacité de retenue de saleté et filtration efficace

Cartouche électronique de filtre à eau de procédé de la série PLPE

La cartouche de filtre à profondeur de plaie de la série CMW est conçue pour la filtration de la suspension CMP et du liquide de polissage.qui peut intercepter efficacement les grandes particules et libérer des particules de polissage efficaces dans la suspension de CMPLa structure de dégradation de l'extérieur vers l'intérieur augmente l'espace de rétention de la saleté, réduit l'obstruction de la surface et contribue à prolonger la durée de vie de la cartouche de filtre.

Avec une construction entièrement en polypropylène, peu de précipitations, une grande capacité de rétention de saleté et des performances de filtration stables, la série CMW convient au polissage de la filtration liquide dans les semi-conducteurs,électronique, le traitement des plaquettes et les applications de traitement de surface de précision.

• Faibles précipitations:La cartouche de filtre est fabriquée en polypropylène et fabriquée par soudure thermique sans adhésifs, ce qui contribue à réduire la lixiviation et les précipitations.le rendant adapté à une filtration de processus plus propre.
• Filtration efficace:La structure unique de la plaie peut filtrer avec précision la suspension de CMP, intercepter efficacement les grandes particules et permettre aux particules de polissage efficaces de passer,aide à maintenir les performances de la suspension lors de la filtration.
• Capacité de retenue de la saleté élevée et longue durée de vie:La structure de pente de l'extérieur vers l'intérieur permet d'éviter un encombrement rapide de la surface causé par le lisier condensé.et une durée de vie plus longue.
• Prévenir la perte de fibres:La structure unique du couvercle du filet empêche la chute des fibres de la surface de la cartouche de filtre, améliorant ainsi la propreté du produit et la stabilité de la filtration.

Comparé aux cartouches de filtre à plaies ordinaires, la série CMW est spécialement conçue pour la filtration liquide de polissage.Sa structure de plaie en dégradé aide à contrôler les grandes particules tout en préservant les particules de polissage efficaces dans le lisier.

La construction entièrement en PP et le processus de soudage sans adhésif réduisent le risque de lixiviation et améliorent la propreté.La structure anti-déchets de fibres aide également à maintenir des performances de filtration stables dans les processus de polissage exigeants.

Pour les applications de lisier et de liquide de polissage CMP, la série CMW peut aider à réduire l'obstruction, à prolonger les intervalles de remplacement et à améliorer la stabilité du processus.

Nous fournissons un soutien technique complet pour l'installation, l'exploitation et la maintenance, y compris des conseils de remplacement des filtres et des recommandations de maintenance.La documentation complète comprend des manuels d'utilisation, guides d'installation et notes de dépannage.

Shanghai Pullner Filtration Technology Co., Ltd. a été créée en mai 2011 avec un capital social de 26 millions de RMB.000 m2) et une classe 1 sur placeL'objectif est d'intégrer la recherche et le développement, la fabrication et la vente d'équipements de filtration par membrane microporeuse et de systèmes de filtration.

Les produits Pullner sont largement utilisés dans les domaines de la microélectronique, des produits chimiques fines, de la nouvelle énergie, du dessalement de l'eau de mer, de la biotechnologie et des laboratoires, y compris les panneaux LCD, le traitement des semi-conducteurs,produits chimiques de haute pureté, la filtration par condensat et la réutilisation de l'eau récupérée.

La société détient des certificats ISO9001 / ISO14001 / ISO45001, est reconnue comme une entreprise de haute technologie et possède plusieurs brevets.