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Détails sur le produit:
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| Mettre en évidence: | Cartouche filtrante pour fluide de polissage,capacité de rétention élevée de la saleté,faibles précipitations |
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La cartouche filtrante à haute rétention de saleté du fluide de polissage de la série CMA est conçue pour la filtration des particules en vrac et des colloïdes dans les processus CMP d'oxyde, CMP de tungstène et CMP de cuivre.
Cette série utilise un traitement dégradé et une conception unique de taille de pores progressive. La taille des pores diminue progressivement de l’extérieur vers l’intérieur, permettant de capturer les grosses particules et les agglomérats tandis que les particules de polissage utiles peuvent passer à travers. Cette structure contribue à améliorer l’efficacité de la filtration, à augmenter l’espace de rétention des saletés, à réduire le colmatage et à prolonger la durée de vie du filtre.
Avec une construction entièrement en polypropylène, de faibles précipitations, une large compatibilité chimique et des valeurs de micron en option de 0,1 μm à 90 μm, la série CMA convient à différentes exigences de filtration de liquides de polissage.
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La taille des pores du média filtrant diminue progressivement de l'extérieur vers l'intérieur. Cette structure aide à piéger les grosses particules et à libérer des particules de polissage efficaces, offrant ainsi une zone de filtration efficace plus grande et une capacité de rétention de saleté plus élevée.
La cartouche est fabriquée entièrement en PP et produite sans adhésifs ni tensioactifs. Cela permet de réduire les risques de précipitations et de lessivage lors de la filtration.
La structure en polypropylène offre une bonne compatibilité chimique et convient à la filtration de divers liquides de polissage et fluides de traitement.
Des valeurs en microns de 0,1 μm à 90 μm sont disponibles pour répondre aux différentes exigences du processus de polissage. Différentes longueurs et types d'interface peuvent également être personnalisés pour être utilisés avec différents boîtiers de filtre.
| Article | Spécification |
|---|---|
| Série de produits | Série CMA |
| Type de produit | Cartouche filtrante à haute rétention de saleté pour liquide de polissage |
| Média filtrant | Polypropylène PP |
| Cage / Noyau / Embouts | Polypropylène PP |
| Structure | Structure de filtration à gradient de taille de pores |
| Cote en microns | 0,1 μm – 90 μm |
| Application principale | Filtration du liquide de polissage, filtration des boues CMP |
| Température de fonctionnement maximale | 70°C |
| Pression différentielle de fonctionnement maximale | 4 bars à 21°C ; 2,4 bars à 70°C |
| Construction | Structure entièrement en PP, sans adhésifs, sans tensioactifs |
| Personnalisation | Le nombre de microns, la longueur, le type d'embout et le type d'interface peuvent être personnalisés |
| Série | Micron | Longueur | Type d'embout | Matériau du joint |
|---|---|---|---|---|
| RMR | 0010=0,1μm 1000=10μm 0050=0,5μm 0100=1,0μm 4000=40um 0150=1,5um 0200=2,0μm 7000=70μm 0500=5,0μm 9000=90μm | 10=10" 20=20" 30=30 40=40" | C3=222/Fin C5=222/Plat C9=DOE | E=EPDM V=Viton |
| Industrie | Application |
|---|---|
| Semi-conducteur | Oxyde CMP, tungstène CMP, filtration des boues de cuivre CMP |
| Fabrication d'électronique | Filtration du liquide de polissage et contrôle des particules |
| Traitement des plaquettes | Filtration de processus CMP |
| Affichage / FPD | Filtration de précision du fluide de polissage |
| Traitement de surface de précision | Élimination des particules et des colloïdes en vrac |
Par rapport aux cartouches filtrantes PP ordinaires, la série CMA est spécialement conçue pour la filtration des liquides de polissage et des boues CMP. Sa structure de filtration par gradient permet de capturer les grosses particules tout en conservant des composants de polissage efficaces dans le liquide.
La capacité élevée de rétention de la saleté peut réduire le blocage, prolonger la durée de vie et réduire la fréquence de remplacement du filtre. La structure entièrement en PP sans adhésif aide également à contrôler les précipitations et à améliorer la propreté du processus.
Nous fournissons une assistance technique complète pour l'installation, l'exploitation et la maintenance, y compris des conseils de remplacement des filtres et des recommandations de maintenance. La documentation complète comprend des manuels d'utilisation, des guides d'installation et des notes de dépannage.
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Shanghai Pullner Filtration Technology Co., Ltd. a été créée en mai 2011 avec un capital social de 26 millions de RMB. L'entreprise exploite un atelier de salle blanche de classe 100 000 (3 000 m²) et un laboratoire propre de classe 1 000 sur site, intégrant la R&D, la fabrication et la vente d'équipements de filtration à membrane microporeuse et de systèmes de filtration.
Les produits Pullner sont largement utilisés dans les domaines de la microélectronique, de la chimie fine, des nouvelles énergies, du dessalement de l'eau de mer, de la biotechnologie et des laboratoires, notamment les panneaux LCD, le traitement des semi-conducteurs, les produits chimiques de haute pureté, la filtration des condensats et la réutilisation de l'eau récupérée.
La société détient les certificats ISO9001 / ISO14001 / ISO45001, est reconnue comme une entreprise de haute technologie et possède plusieurs brevets. Pullner est également un fournisseur agréé de Saudi Aramco.
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